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名称:钽基介电薄膜;tantalum dielectric film
      一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜,介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。

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